산업통상자원부는 글로벌 화학소재 기업인 듀폰이 국내에 일본 수출규제 3대 품목 가운데 하나인 자외선(EUV)용 포토레지스트(감광제) 개발·생산시설 구축에 나선다고 9일 밝혔다.

성윤모 산업부 장관은 8일(현지시간) 미국 현지에서 존 켐프 듀폰 사장과 개별면담을 통해 이런 내용을 골자로 하는 한국 투자를 최종 확정했다.

듀폰은 반도체용 포토레지스트와 능동형유기발광다이오드(AMOLED·아몰레드) 및 화학제품 등을 생산하는 기업으로 현재 전 세계 70여개국에 163개 자회사를 보유하고 있다.

이날 존 켐프 사장은 성 장관과 함께 자리한 장상현 코트라 인베스트 코리아 대표에게 2800만 달러 규모의 투자신고서를 제출했다.

투자계획을 보면 듀폰은 2021년까지 충남 천안에 EUV용 포토레지스트 개발 개발·생산과 반도체 웨이퍼(기판) 연마재인 CMP 패드 생산을 위한 시설을 구축하게 된다.

EUV용 포토레지스트는 웨이퍼 위에 패턴을 형성하는 포토 리소그래피 공정에 사용되는 감광성 재료로 파장이 짧을수록 미세화 공정에 유리하다.

듀폰은 한국 자회사인 롬엔드하스전자재료코리아를 통해 1998년부터 천안에 2개 공장을 가동해 반도체 회로기판용 소재·부품을 생산해왔다. 현재 생산 제품은 불화크립톤(KrF), 불화아르곤(ArF) 포토레지스트, 빛반사방지막제, 금속박막도금, 유전체, 클리닝 화학제품 등이다.

듀폰은 이번 투자를 통해 반도체 극소형화에 필요한 차세대 제품·기술 개발 및 공급 다변화 요구에 대응할 계획이다.

존 켐프 사장은 투자신고서를 제출하는 자리에서 "EUV용 포토레지스트 개발과 생산을 위해 앞으로 한국 내 주요 수요업체와 제품 실증테스트를 진행하는 등 긴밀히 협력해 나갈 계획"이라고 밝혔다.

성 장관은 "최근 일본 정부가 EUV용 포토레지스트에 대한 특정 포괄허가를 허용하는 등 수출규제 조치 해결에 일부 진전이 있었지만 근본적인 해결 방안으로 보기는 어렵다"며 "정부는 핵심 소재·부품·장비에 대한 기술 경쟁력 확보와 공급선 다변화를 계속해서 추진하겠다"고 전했다.

산업부는 지난해 7월 일본 정부의 수출규제 조치 이후 핵심 소재·부품·장비에 대한 공급 안정화를 위해 듀폰과 직접 접촉해 투자유치를 협의해왔다. 산업부 측은 이번 투자 유치를 통해 일본 수입에 의존해 온 품목의 공급선을 다변화할 수 있다는 점에 의의가 있다고 설명했다.

산업부 관계자는 "정부와 지방자치단체, 코트라가 원팀으로 투자 협상을 진행해 경쟁국을 제치고 최종 투자처로 선정됐다"며 "정부와 해당 지자체는 투자 과정에서 애로사항 해소, 인센티브 지원 등이 차질 없이 이루어지도록 노력할 예정"이라고 전했다.

한편 성 장관은 9일(현지시간) 미국 실리콘밸리에서 열린 '투자가 라운드테이블'에서 한국 투자에 관심을 가지고 있는 미국 투자가들을 대상으로 투자 유치 활동을 진행했다.

산업부에 따르면 참석 기업들은 우리 정부의 수소경제 활성화 로드맵과 핵심 소재·부품·장비 경쟁력 강화 대책 등에 관심을 보였다. 특히 한 수소차 관련 소재기업은 국내 수요기업과의 협력 가능성을 고려해 한국에 생산시설을 구축하는 투자를 고려하고 있다고 밝혀왔다.

성 장관은 "정부는 외국인 투자에 대한 지원을 아끼지 않을 예정"이라고 언급했다.

산업부는 외투기업의 미처분 이익잉여금에 대한 직접투자 인정, 소재·부품·장비 분야 현금지원 확대 등 외국인투자 활성화를 위한 제도 개선을 추진할 예정이다.

뉴시스  newsis.com

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